高純電子刻蝕氣體六氟丙烷HFC-236fa成功研制
高純1,1,1,3,3,3-六氟丙烷（HFC-236fa）在半導體工業(yè)中可作為刻蝕氣體，用于某些芯片的制造過(guò)程。北京宇極科技發(fā)展有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“北京宇極科技”）經(jīng)潛心研發(fā)，成功研制了滿(mǎn)足電子刻蝕純度要求的HFC-236fa，可作為半導體企業(yè)的備選氣體之一。作為含氟化工品生產(chǎn)企業(yè)，北京宇極科技擁有獨立自主知識產(chǎn)權HFC-236fa的提純工藝技術(shù)，可產(chǎn)出4N級高純產(chǎn)品，亦可根據不同客戶(hù)的要求，對雜質(zhì)組分進(jìn)行有針對性的定向去除。
1,1,1,3,3,3-六氟丙烷（HFC-236fa），英文名稱(chēng)1,1,1,3,3,3-Hexafluoropropane，ODP為0，GWP為8060。CAS號690-39-1，UN號3163，化學(xué)式CF3CH2CF3。常溫常壓下是無(wú)色無(wú)味可液化的氣體，化學(xué)穩定性好。
HFC-236fa的物化數據
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外觀(guān)與性狀 |
無(wú)色無(wú)味液化壓縮氣體 |
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分子量（g/mol） |
152.04 |
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沸點(diǎn)（at 1.013 bar, ℃） |
-1.1 |
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蒸汽壓（at 25℃, bar） |
2.608 |
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密度（at 25℃, g/ml) |
1.371 |
HFC-236fa的應用
高純HFC-236fa是一種新型的電子特氣，用于半導體及電子產(chǎn)品的刻蝕。HFC-236fa也被用作重要的滅火劑原料。
產(chǎn)品規格
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純度等級 |
4N |
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純度 |
≥99.99% |
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雜質(zhì)組分 |
N2, O2, H2O, CO2, CO等 |
包裝信息
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鋼瓶容積(L) |
充裝重量(kg) |
閥門(mén) |
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10.2 |
10 |
CGA 350 |
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47 |
50 |
CGA 350 |
運輸信息
DOT Name: Liquefied Gas (Hexafluoropropane)
DOT Hazard Class: 2.2
UN No.: UN 3163
DOT Label: Non-flammable Gas
CAS NO.: 690-39-1